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Sensofar白光干涉儀:高精度(亞納米)測(cè)量

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Sensofar白光干涉儀:高精度(亞納米)測(cè)量Sensofar 的四合一測(cè)量技術(shù)堪稱 S neox 的一大核心亮點(diǎn)。在其傳感器頭中,巧妙集成了干涉、共聚焦、Ai 多焦面疊加和膜厚測(cè)量等多種先進(jìn)測(cè)量技術(shù)。只需輕松點(diǎn)擊一次,系統(tǒng)便能依據(jù)當(dāng)前測(cè)量任務(wù)的具體需求,自動(dòng)智能地切換到最為適配的最佳技術(shù)。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2025-07-11
廠商性質(zhì):代理商
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Sensofar白光干涉儀:高精度(亞納米)測(cè)量

Sensofar白光干涉儀:高精度(亞納米)測(cè)量

Sensofar S neox三維共焦白光干涉光學(xué)輪廓儀:高精度表面測(cè)量選

引言

在現(xiàn)代工業(yè)制造、科研實(shí)驗(yàn)和質(zhì)量控制領(lǐng)域,表面形貌的精確測(cè)量至關(guān)重要。無(wú)論是半導(dǎo)體、光學(xué)元件、精密加工,還是生物醫(yī)學(xué)材料,都需要高分辨率、非接觸式的表面測(cè)量技術(shù)。Sensofar S neox三維共焦白光干涉光學(xué)輪廓儀憑借其的測(cè)量精度、靈活的操作方式以及多技術(shù)融合的優(yōu)勢(shì),成為表面形貌分析領(lǐng)域的設(shè)備。本文將詳細(xì)介紹S neox的核心技術(shù)、應(yīng)用場(chǎng)景及其在行業(yè)中的地位

1. 共焦與白光干涉技術(shù)的結(jié)合

S neox采用共焦顯微鏡(Confocal Microscopy)和白光干涉(Vertical Scanning Interferometry, VSI)雙模式測(cè)量技術(shù),可根據(jù)不同樣品特性自動(dòng)切換或組合使用,實(shí)現(xiàn)納米級(jí)分辨率的高精度測(cè)量。

共焦模式適用于高陡坡、不透明或高反射率樣品,能夠清晰捕捉復(fù)雜結(jié)構(gòu)的表面細(xì)節(jié)。

白光干涉模式則擅長(zhǎng)測(cè)量光滑表面,提供亞納米級(jí)縱向分辨率,適用于光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體晶圓等超精密檢測(cè)。

2. 智能光學(xué)切換系統(tǒng)(Smart Technology Switching)

S neox搭載智能光學(xué)切換系統(tǒng),可根據(jù)樣品特性自動(dòng)選擇最佳測(cè)量模式,無(wú)需人工干預(yù),大幅提升檢測(cè)效率。例如:

對(duì)粗糙表面(如金屬加工件)采用共焦模式;

對(duì)光滑表面(如硅片或光學(xué)鏡片)采用白光干涉模式;

對(duì)復(fù)雜結(jié)構(gòu)(如MEMS器件)則結(jié)合兩種技術(shù),確保數(shù)據(jù)完整性。

3. 超高分辨率與快速掃描

橫向分辨率可達(dá)0.5µm,縱向分辨率優(yōu)于0.1nm,滿足最嚴(yán)苛的測(cè)量需求。

高速掃描技術(shù)可在數(shù)秒內(nèi)完成大面積測(cè)量,顯著提升檢測(cè)效率,適用于批量生產(chǎn)環(huán)境。

4. 先進(jìn)的3D分析與軟件支持

S neox配備SensoMAP高級(jí)分析軟件,支持:

3D形貌重建(粗糙度、臺(tái)階高度、體積分析等);

自動(dòng)缺陷檢測(cè)(劃痕、顆粒污染、薄膜厚度不均等);

多參數(shù)統(tǒng)計(jì)(Sa、Sq、Sz等ISO標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)),并生成專業(yè)報(bào)告。

二、Sensofar S neox的典型應(yīng)用領(lǐng)域

Sensofar白光干涉儀:高精度(亞納米)測(cè)量

1. 半導(dǎo)體與微電子制造

在半導(dǎo)體行業(yè),晶圓表面的平整度、薄膜厚度和刻蝕質(zhì)量直接影響芯片性能。S neox可精確測(cè)量:

晶圓表面粗糙度(Ra < 0.1nm);

光刻膠厚度(精度達(dá)納米級(jí));

MEMS器件形貌(如微機(jī)械結(jié)構(gòu)的側(cè)壁角度、深度等)。

2. 光學(xué)元件檢測(cè)

高精度光學(xué)元件(如透鏡、反射鏡、AR/VR鏡片)對(duì)表面質(zhì)量要求。S neox可檢測(cè):

表面瑕疵(劃痕、凹坑、污染);

薄膜均勻性(如抗反射鍍膜厚度);

面形誤差(PV值、RMS值)。

3. 精密加工與增材制造

在金屬加工、3D打印等領(lǐng)域,S neox可快速評(píng)估:

加工表面粗糙度(Ra、Rz);

激光微結(jié)構(gòu)形貌(如微孔、微槽的深度和寬度);

3D打印層厚一致性(確保成型精度)。

4. 生物醫(yī)學(xué)與材料科學(xué)

生物材料表面(如人工關(guān)節(jié)、牙科植入物的粗糙度分析);

納米涂層(如藥物緩釋薄膜的厚度測(cè)量);

細(xì)胞培養(yǎng)基底(表面形貌對(duì)細(xì)胞生長(zhǎng)的影響研究)。

Sensofar白光干涉儀:高精度(亞納米)測(cè)量

三、為何選擇Sensofar S neox?

多技術(shù)融合——共焦+干涉+聚焦成像,一機(jī)多用,適應(yīng)各類樣品。

超高精度——亞納米級(jí)分辨率,滿足最嚴(yán)苛的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

高效自動(dòng)化——智能模式切換,減少人工干預(yù),提升檢測(cè)效率。

廣泛兼容性——支持從微米級(jí)到厘米級(jí)樣品的測(cè)量,適用于科研與生產(chǎn)。

品牌——Sensofar作為光學(xué)輪廓儀領(lǐng)域的,技術(shù)成熟,服務(wù)完善。

Sensofar白光干涉儀:高精度(亞納米)測(cè)量

四、結(jié)語(yǔ)

在追求精密的現(xiàn)代工業(yè)與科研中,Sensofar S neox三維共焦白光干涉光學(xué)輪廓儀憑借其創(chuàng)新的多模式測(cè)量技術(shù)、分辨率以及強(qiáng)大的分析能力,成為表面形貌檢測(cè)的黃金標(biāo)準(zhǔn)。無(wú)論是半導(dǎo)體制造、光學(xué)元件生產(chǎn),還是生物材料研究,S neox都能提供可靠的數(shù)據(jù)支持,助力企業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量、加速研發(fā)進(jìn)程。

選擇Sensofar S neox,就是選擇高精度、高效率與高可靠性的表面測(cè)量解決方案!

如需了解更多技術(shù)細(xì)節(jié)或申請(qǐng)樣機(jī)演示,請(qǐng)聯(lián)系Sensofar授權(quán)代理商。

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