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澤攸電鏡:材料科學(xué)研究的全能型顯微伙伴

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

澤攸電鏡:材料科學(xué)研究的全能型顯微伙伴
在材料科學(xué)領(lǐng)域,微觀結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)表征與動(dòng)態(tài)行為研究是推動(dòng)技術(shù)突破的核心驅(qū)動(dòng)力。安徽澤攸科技推出的ZEM20Pro臺(tái)式掃描電子顯微鏡,憑借其高分辨率成像、模塊化原位實(shí)驗(yàn)功能及智能化操作設(shè)計(jì),成為科研與工業(yè)領(lǐng)域的“顯微伙伴"。

產(chǎn)品型號(hào):ZEM20Pro
更新時(shí)間:2025-09-18
廠商性質(zhì):代理商
訪問(wèn)量:18
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澤攸電鏡:材料科學(xué)研究的全能型顯微伙伴

在材料科學(xué)領(lǐng)域,微觀結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)表征與動(dòng)態(tài)行為研究是推動(dòng)技術(shù)突破的核心驅(qū)動(dòng)力。安徽澤攸科技推出的ZEM20Pro臺(tái)式掃描電子顯微鏡,憑借其高分辨率成像、模塊化原位實(shí)驗(yàn)功能及智能化操作設(shè)計(jì),成為科研與工業(yè)領(lǐng)域的“顯微伙伴"。

一、核心性能:納米級(jí)成像的“顯微利器"

ZEM20Pro搭載單晶燈絲電子源,在20kV加速電壓下分辨率可達(dá)3納米,支持36萬(wàn)倍極限放大,可清晰呈現(xiàn)金屬表面原子臺(tái)階、半導(dǎo)體量子點(diǎn)等亞微觀結(jié)構(gòu)。其熱場(chǎng)發(fā)射電子槍設(shè)計(jì),亮度較傳統(tǒng)鎢燈絲提升10倍,能量分散降低50%,確保圖像信噪比與分辨率的雙重優(yōu)化。例如,在AI芯片封裝檢測(cè)中,ZEM20Pro成功識(shí)別出金屬層孔洞密度降低30%的缺陷,助力成品良率提升至99.8%。

設(shè)備采用五級(jí)電磁透鏡系統(tǒng),通過(guò)多層超導(dǎo)鍍膜與水冷設(shè)計(jì),將電子束聚焦精度控制在納米級(jí)別,溫度波動(dòng)小于±0.1℃,保障長(zhǎng)時(shí)間實(shí)驗(yàn)的穩(wěn)定性。樣品室配備高精度五軸電動(dòng)臺(tái),定位精度達(dá)±1微米,支持樣品傾斜(-15°至+90°)與360°旋轉(zhuǎn),滿足多角度觀察需求。

二、模塊化設(shè)計(jì):從靜態(tài)成像到動(dòng)態(tài)追蹤的跨越

ZEM20Pro突破傳統(tǒng)電鏡“觀察-分析"分離的局限,通過(guò)模塊化擴(kuò)展實(shí)現(xiàn)“成像-測(cè)試-分析"一體化研究:

  1. 原位力學(xué)測(cè)試:可選配拉伸臺(tái)(最大載荷50N),實(shí)時(shí)觀察材料在受力過(guò)程中的裂紋萌生與擴(kuò)展。例如,在金屬疲勞研究中,結(jié)合EDS能譜儀分析氧化層成分變化,揭示斷裂機(jī)理。

  2. 熱力學(xué)行為模擬:加熱臺(tái)最高溫度達(dá)1000℃,冷臺(tái)溫度-30℃,可模擬電池充放電循環(huán)中的電極膨脹、二維材料層間滑移等動(dòng)態(tài)過(guò)程。在GaN/SiC功率器件封裝檢測(cè)中,高分辨率成像精準(zhǔn)定位鍵合界面微裂紋,保障產(chǎn)品在高溫高壓下的穩(wěn)定性。

  3. 電學(xué)性能表征:集成四探針電學(xué)測(cè)量模塊,支持納米器件的IV曲線測(cè)試,為半導(dǎo)體工藝研發(fā)提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)。

設(shè)備采用真空分隔技術(shù),電子槍與樣品倉(cāng)獨(dú)立抽真空,換樣時(shí)間縮短至1分鐘以內(nèi),顯著提升實(shí)驗(yàn)效率。內(nèi)置高清攝像頭與光學(xué)導(dǎo)航系統(tǒng),可實(shí)時(shí)記錄樣品形變過(guò)程,避免電子束長(zhǎng)時(shí)間照射導(dǎo)致的損傷。

三、智能化操作:降低使用門(mén)檻的“科研助手"

ZEM20Pro通過(guò)軟件與硬件的協(xié)同創(chuàng)新,將復(fù)雜操作簡(jiǎn)化為“一鍵式"流程:

  1. 自動(dòng)參數(shù)優(yōu)化:軟件內(nèi)置“智能成像"模式,可根據(jù)樣品類型自動(dòng)調(diào)節(jié)加速電壓、工作距離與探針電流,新手用戶無(wú)需培訓(xùn)即可獲得高質(zhì)量圖像。

  2. 三維重構(gòu)與數(shù)據(jù)導(dǎo)出:支持圖像拼接、斷層掃描與三維重構(gòu),分析結(jié)果可導(dǎo)出為BMP、TIFF、JPEG等通用格式,兼容第三方軟件進(jìn)一步處理。

  3. 實(shí)驗(yàn)?zāi)0骞芾?/span>:用戶可保存常用參數(shù)設(shè)置(如加熱速率、拉伸速率),提升重復(fù)性實(shí)驗(yàn)的效率。例如,在材料相變研究中,通過(guò)預(yù)設(shè)溫度梯度與觀察區(qū)域,實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化數(shù)據(jù)采集。

四、性價(jià)比優(yōu)勢(shì):打破進(jìn)口壟斷的“國(guó)產(chǎn)替代"

ZEM20Pro以進(jìn)口設(shè)備1/3的價(jià)格,提供媲美電鏡的性能:

  1. 購(gòu)置成本低:相比同類進(jìn)口產(chǎn)品,ZEM20Pro售價(jià)降低60%,中小型企業(yè)亦可輕松采購(gòu)。

  2. 運(yùn)維成本可控:?jiǎn)尉艚z壽命長(zhǎng)達(dá)1500小時(shí),是傳統(tǒng)鎢燈絲的20倍,耗材更換頻率降低90%。

  3. 本土化服務(wù)保障:澤攸科技在全國(guó)設(shè)立四大服務(wù)中心,提供7×24小時(shí)響應(yīng)與免費(fèi)培訓(xùn),解決用戶后顧之憂。

五、應(yīng)用場(chǎng)景:覆蓋全材料體系的“萬(wàn)能工具"

ZEM20Pro已服務(wù)于全球500余家科研機(jī)構(gòu)與企業(yè),典型應(yīng)用包括:

  • 納米材料:觀察納米顆粒、納米線、二維材料(如石墨烯)的形貌與結(jié)構(gòu)。

  • 半導(dǎo)體與電子:芯片缺陷檢測(cè)、PCB焊點(diǎn)質(zhì)量分析、微納結(jié)構(gòu)測(cè)量。

  • *材料:合金微觀結(jié)構(gòu)分析、復(fù)合材料界面特性研究、催化劑表面形態(tài)表征。

  • 地質(zhì)與生物:礦物微結(jié)構(gòu)觀察、化石標(biāo)本分析、生物樣品(需預(yù)處理)超微結(jié)構(gòu)研究。

結(jié)語(yǔ):從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)線的“無(wú)縫銜接"

ZEM20Pro通過(guò)高分辨率成像、模塊化原位實(shí)驗(yàn)與智能化操作,重新定義了臺(tái)式掃描電鏡的技術(shù)邊界。其“全能型"設(shè)計(jì)不僅滿足材料科學(xué)前沿研究的需求,更以高性價(jià)比與本土化服務(wù),推動(dòng)顯微分析技術(shù)從*實(shí)驗(yàn)室向工業(yè)產(chǎn)線的普及。未來(lái),隨著AI算法與原位技術(shù)的深度融合,ZEM20Pro將持續(xù)賦能材料創(chuàng)新,成為全球科研人員探索微觀世界的“工具"。

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