探秘澤攸ZEM20掃描顯微鏡材料與制造工藝

ZEM20在材料選擇和制造工藝上體現(xiàn)了精密儀器的特點(diǎn)。主體結(jié)構(gòu)采用鋁合金框架配合不銹鋼面板，既保證了結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，又控制了整體重量。電子光學(xué)鏡筒采用無(wú)磁不銹鋼材料，經(jīng)過(guò)特殊熱處理工藝消除內(nèi)應(yīng)力，確保在溫度變化環(huán)境下保持尺寸穩(wěn)定。

電子槍組件采用特殊的陶瓷金屬封接工藝，具有良好的真空密封性和熱穩(wěn)定性。電磁透鏡線圈使用高純度無(wú)氧銅導(dǎo)線，層間絕緣采用聚酰亞胺薄膜，確保了磁場(chǎng)生成的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。光闌機(jī)構(gòu)采用鉬片制造，具有三個(gè)不同尺寸的孔洞，通過(guò)軟件控制自動(dòng)切換。

樣品室內(nèi)部構(gòu)件多數(shù)采用不銹鋼材料，表面經(jīng)過(guò)電解拋光處理，減少出氣率并改善真空性能。樣品臺(tái)傳動(dòng)系統(tǒng)采用精密滾珠絲杠配合步進(jìn)電機(jī)，定位精度達(dá)到1微米級(jí)別。所有真空密封圈均采用氟橡膠材料，具有良好的真空性能和較長(zhǎng)的使用壽命。

ZEM20的性能參數(shù)包括成像、真空與操作等方面。在成像性能上，其二次電子與背散射電子圖像分辨率均達(dá)到4nm，放大倍數(shù)范圍為數(shù)十倍至36萬(wàn)倍。加速電壓最大支持20kV，并可選擇高真空或低真空模式（低真空為選配）。電子槍類(lèi)型為預(yù)對(duì)中鎢燈絲，壽命較長(zhǎng)。樣品臺(tái)標(biāo)準(zhǔn)配置為三軸，可選五軸，移動(dòng)范圍靈活。真空系統(tǒng)采用獨(dú)特分隔設(shè)計(jì)，抽真空時(shí)間短，換樣后準(zhǔn)備迅速。探測(cè)器類(lèi)型涵蓋SE（二次電子）與BSE（背散射電子）。設(shè)備還支持圖像多格式保存（如TIFF、JPEG），分辨率最高可達(dá)7680×4800像素。這些參數(shù)保證了ZEM20在微觀形貌觀察中的表現(xiàn)。探秘澤攸ZEM20掃描顯微鏡材料與制造工藝