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光學(xué)顯微鏡
奧林巴斯顯微鏡
BX53奧林巴斯清晰成像:材料微觀結(jié)構(gòu)呈現(xiàn)



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奧林巴斯清晰成像:材料微觀結(jié)構(gòu)呈現(xiàn)奧林巴斯BX53材料顯微鏡在呈現(xiàn)材料微觀結(jié)構(gòu)方面,注重成像的清晰度與細(xì)節(jié)表現(xiàn)。
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奧林巴斯BX53材料顯微鏡在呈現(xiàn)材料微觀結(jié)構(gòu)方面,注重成像的清晰度與細(xì)節(jié)表現(xiàn)。其采用的UIS2無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng),為高分辨率成像奠定了基礎(chǔ)。針對(duì)材料樣品表面特性多樣的特點(diǎn),BX53M型號(hào)支持多種觀察模式,包括明場(chǎng)、暗場(chǎng)、偏光和微分干涉(DIC)等。例如,微分干涉襯度(DIC)技術(shù)能夠凸顯樣品表面的微小高度差,產(chǎn)生類似三維浮雕的影像,有助于觀察材料的劃痕、晶界等特征。
在偏光觀察方面,BX53M配置了相應(yīng)的組件,可用于研究具有雙折射特性的材料。這對(duì)于分析諸如晶體、高分子聚合物等材料的光學(xué)性質(zhì)至關(guān)重要。部分BX53M型號(hào)(如TRF-S)具備反射和透射兩種照明模式,使得用戶既能觀察不透明金屬材料的表面,也能分析一些透明或半透明薄膜的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。
照明的均勻性和穩(wěn)定性對(duì)成像質(zhì)量有直接影響。BX53的照明系統(tǒng)可選配LED光源。LED光源具有壽命長(zhǎng)、發(fā)熱量低的特點(diǎn),有助于保持長(zhǎng)時(shí)間觀察過(guò)程中光強(qiáng)的穩(wěn)定,并且減少了因熱量積累導(dǎo)致樣品損傷的可能性。部分型號(hào)的LED光源使用壽命可達(dá)50,000小時(shí),降低了后期維護(hù)的頻率和成本。
物鏡的性能是決定成像清晰度的核心。BX53材料顯微鏡可配置多種倍率的物鏡,從低倍(如5X)用于概覽,到高倍(如100X油鏡)用于觀察精細(xì)結(jié)構(gòu)。針對(duì)材料研究中的特殊需求,例如需要在特定溫度下觀察樣品的相變行為,BX53M系統(tǒng)可配合Linkam CSS450剪切熱臺(tái)或THMS600冷熱臺(tái)等附件,在-196℃到600℃的寬溫度范圍內(nèi)進(jìn)行原位觀察。
使用說(shuō)明:進(jìn)行顯微觀察時(shí),先根據(jù)樣品特性(如不透明或透明)選擇合適的照明方式(反射或透射)。切換物鏡時(shí),注意物鏡的工作距離,避免鏡頭與樣品碰撞。使用微分干涉(DIC)功能時(shí),需插入相應(yīng)的棱鏡組件。進(jìn)行偏光觀察前,需校正起偏器和檢偏器的位置。若使用油鏡,需在物鏡和樣品間滴加適量的浸油,使用后務(wù)必及時(shí)清潔。
參數(shù)簡(jiǎn)表(成像相關(guān)):
光學(xué)系統(tǒng):UIS2無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)
觀察模式:明場(chǎng)、暗場(chǎng)、偏光、微分干涉(DIC)等(取決于配置)
照明光源:可選LED光源,壽命長(zhǎng)(如50,000小時(shí))
物鏡:多種倍率可選,如5X, 10X, 20X, 50X, 100X (油鏡) 等
載物臺(tái):支持電動(dòng)或手動(dòng),可選配熱臺(tái)/冷臺(tái)
溫度范圍(配合熱臺(tái)/冷臺(tái)):-196℃ ~ 600℃
成像兼容:可連接彩色或黑白CMOS/CCD相機(jī)
用途:BX53材料顯微鏡的成像能力使其適用于材料表面形貌分析、晶體結(jié)構(gòu)觀察、晶粒尺寸統(tǒng)計(jì)、涂層與鍍層檢測(cè)以及材料在變溫條件下的相變研究等多種需要清晰呈現(xiàn)微觀結(jié)構(gòu)的場(chǎng)景。
奧林巴斯清晰成像:材料微觀結(jié)構(gòu)呈現(xiàn)
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