微透鏡陣列作為光學領域的核心元件，由數(shù)百至數(shù)千個微米級透鏡單元組成，廣泛應用于成像系統(tǒng)、光通信、傳感器等領域。其表面微觀3D輪廓參數(shù)（如曲率半徑、面型誤差、中心厚度等）直接影響光學性能，而白光干涉儀S neox憑借其非接觸、高精度、三維成像的獨特優(yōu)勢，成為微透鏡陣列表征的“黃金標準”。

　　一、亞納米級精度：解鎖微觀形貌的“密碼”

　　微透鏡陣列的測量需滿足三大核心需求：高精度三維參數(shù)提取、大面積快速檢測、非接觸無損測量。傳統(tǒng)探針式輪廓儀雖精度較高，但接觸式測量易劃傷表面；激光共聚焦顯微鏡橫向分辨率高，但垂直精度不足，難以滿足曲率半徑的精確計算。S neox白光干涉儀通過共聚焦與干涉雙模式融合技術，將垂直分辨率提升至0.1nm，橫向分辨率達0.1μm，可清晰捕捉納米級表面起伏。例如，在50×50單元、口徑50μm的聚合物微透鏡陣列測量中，S neox成功識別出3個面型誤差超標的單元，測得平均曲率半徑與設計值偏差僅0.8%，粗糙度Ra均小于5nm，為工藝優(yōu)化提供了精準數(shù)據(jù)。

　　二、智能掃描：效率與精度的平衡

　　針對微透鏡陣列的大面積檢測需求，S neox采用拼接掃描技術，結合500μm行程的壓電掃描臺，實現(xiàn)毫米級視場的一次性覆蓋。以10×10陣列的100μm口徑微透鏡為例，單次掃描僅需30秒，較傳統(tǒng)探針式測量效率提升數(shù)十倍。其智能操作界面支持一鍵聚焦掃描，自動化程序可批量識別陣列單元并提取參數(shù)，大幅降低人工干預。在玻璃微透鏡陣列測量中，通過反射模式抑制透射光干擾，測量重復性標準差控制在3nm以內(nèi)，確保數(shù)據(jù)穩(wěn)定性。

　　三、多場景適配：從實驗室到產(chǎn)線的全鏈路支持

　　S neox的模塊化設計支持多焦面疊加技術，可擴展測量范圍至86°局部斜率，適配玻璃、聚合物、半導體等多種材料。對于透明微透鏡，通過調(diào)整光源波長或采用反射式測量模式，可避免透射光干擾；針對邊緣陡峭坡度導致的干涉條紋模糊問題，采用多角度照明或增加掃描步長（如5nm/步）提升邊緣數(shù)據(jù)質(zhì)量。在汽車發(fā)動機缸套紋理評估中，S neox甚至可同時表征微米級油槽深度與毫米級缸套直徑，展現(xiàn)跨尺度測量能力。

　　從納米電子器件到宏觀機械部件，從實驗室研究到工業(yè)產(chǎn)線，S neox白光干涉儀正以亞納米級精度與毫秒級掃描速度，重新定義微透鏡陣列表征的邊界，為光學制造的高精度、高效率發(fā)展注入強勁動力。