白光干涉儀S neox的透明材料測量

產(chǎn)品簡介

白光干涉儀S neox的透明材料測量：Sensofar S neox光學(xué)輪廓儀結(jié)合共聚焦模式與專用算法，有效克服透明材料測量中因折射和多重反射導(dǎo)致的干擾，實現(xiàn)對其表面形貌與薄膜厚度的精確表征。

產(chǎn)品型號：

更新時間：2025-11-12

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

三維光學(xué)輪廓儀

布魯克 BEUKER白光干涉光學(xué)輪廓儀 Sensofar 儀光新型共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR 3D光學(xué)輪廓儀 SENSOFAR共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR結(jié)構(gòu)光三維輪廓儀 SENSOFAR平面度測量干涉儀 ZYGO三維光學(xué)輪廓儀布魯克三維光學(xué)輪廓儀

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白光干涉儀S neox的透明材料測量

透明或半透明材料，如玻璃、聚合物薄膜、光學(xué)涂層、生物材料等，在眾多領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。對這些材料進行表面形貌測量，是質(zhì)量控制和研究開發(fā)中的重要環(huán)節(jié)。然而，透明材料會給傳統(tǒng)的光學(xué)測量方法帶來挑戰(zhàn)，主要原因是光線在穿過材料表面時會發(fā)生折射，并在上下界面產(chǎn)生反射，干擾真實的表面形貌信息。Sensofar S neox 3D光學(xué)輪廓儀通過其多模式測量技術(shù)和專用軟件算法，為透明材料的測量提供了可行的思路。

當(dāng)光線照射到透明材料表面時，一部分光會在空氣-材料界面發(fā)生反射，這部分光攜帶了樣品表面的形貌信息，是白光干涉測量所需的信號。另一部分光會折射進入材料內(nèi)部，如果材料底部或內(nèi)部存在界面，還會產(chǎn)生二次甚至多次反射。這些額外的反射信號會與表面信號混合，導(dǎo)致干涉條紋對比度下降或出現(xiàn)鬼影，使得重建的三維形貌失真，例如可能測出虛假的臺階或錯誤的輪廓。

S neox應(yīng)對這一挑戰(zhàn)的方式之一是采用共聚焦測量模式。共聚焦技術(shù)通過針孔探測，能有效抑制焦平面以外的散射光和反射光，因此對表面信號更為敏感。對于許多透明樣品，使用共聚焦模式可以直接獲得表面較為真實的三維形貌，而受下層反射的干擾較小。這使其成為測量單層透明材料表面粗糙度和形貌的常用選擇。

對于需要利用白光干涉模式的高垂直分辨率進行測量的情況，或者當(dāng)需要測量透明薄膜的厚度時，S neox的軟件提供了專門的校正算法。用戶可以在測量前或測量后，輸入透明材料的折射率參數(shù)。軟件算法會考慮光線在穿過透明層時因折射產(chǎn)生的光程差變化，并對測量得到的形貌數(shù)據(jù)進行校正，從而得到更接近物理真實的表面高度信息。

對于薄膜厚度測量，白光干涉儀可以利用來自薄膜上表面和下表面的反射光之間的干涉效應(yīng)。通過分析干涉信號在光譜域或空間域的變化，軟件可以計算出薄膜的厚度。S neox具備進行這種測量的能力，為其在微納米級透明膜層的表征方面提供了應(yīng)用空間。

需要注意的是，透明材料的測量通常需要根據(jù)樣品的具體特性進行調(diào)整和優(yōu)化。例如，在樣品背面進行消光處理，可以減弱不必要的反射。S neox提供的參數(shù)調(diào)節(jié)靈活性，如光強、濾波設(shè)置等，有助于用戶優(yōu)化測量條件，獲得更清晰的干涉信號。

總之，Sensofar S neox通過結(jié)合共聚焦技術(shù)的優(yōu)勢和白光干涉模式的*算法，為透明材料的表面形貌測量提供了有效的工具。它使得對玻璃基板平整度、光學(xué)元件表面質(zhì)量、高分子薄膜粗糙度等的定量分析變得更加可行，拓展了光學(xué)輪廓儀的應(yīng)用范圍。

白光干涉儀S neox的透明材料測量

上一個：白光干涉儀S neox的自動化測量方案