白光干涉儀S neox的微流體芯片檢測

產(chǎn)品簡介

白光干涉儀S neox的微流體芯片檢測:Sensofar S neox可對微流道進行非接觸三維測量，精確量化通道尺寸、深度、粗糙度及層間對準，為芯片性能優(yōu)化與工藝控制提供關鍵數(shù)據(jù)。

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更新時間：2025-11-18

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白光干涉儀S neox的微流體芯片檢測

微流體芯片廣泛應用于生物、化學、醫(yī)學等領域，其內(nèi)部微通道的尺寸、深度、表面粗糙度直接影響流體的流動特性和檢測靈敏度。Sensofar S neox 3D光學輪廓儀提供了一種非接觸的方法來表征微流體芯片的關鍵幾何參數(shù)。

S neox可以對微流道進行三維掃描，精確測量通道的寬度、深度、截面形狀（如是否為矩形、梯形或弧形）。這些幾何尺寸的準確性對于控制流體的流速、擴散和混合效率至關重要。

通道表面的粗糙度會影響流體的流動阻力，在某些情況下也可能引起蛋白質(zhì)或細胞的非特異性吸附。S neox可以量化通道底壁和側(cè)壁的粗糙度。

對于多層結構的微流體芯片，需要測量層與層之間的對準精度。S neox可以通過測量對準標記的位置偏差來評估對準誤差。

對于由透明聚合物制成的微流體芯片，S neox的共聚焦模式或經(jīng)過透明材料校正的白光干涉模式可以用于測量。其5軸系統(tǒng)允許傾斜樣品，以更好地測量通道的側(cè)壁。

此外，S neox還可以用于檢測微流體芯片在加工過程中可能產(chǎn)生的缺陷，如殘留的聚合物、通道堵塞或裂紋等。

因此，Sensofar S neox為微流體芯片的研發(fā)和制造提供了一種重要的計量工具，幫助優(yōu)化加工工藝，確保芯片質(zhì)量的可靠性和一致性。

白光干涉儀S neox的微流體芯片檢測

上一個：白光干涉儀S neox的遠程操作支持

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