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3D光學輪廓儀S neox的微納技術(shù)角色

產(chǎn)品簡介

3D光學輪廓儀S neox的微納技術(shù)角色:Sensofar S neox以非接觸、三維高分辨率測量能力,精準表征MEMS、微流道及光子晶體等微納結(jié)構(gòu)形貌與尺寸,為研發(fā)與質(zhì)量控制提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支撐。

產(chǎn)品型號:
更新時間:2025-11-20
廠商性質(zhì):代理商
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3D光學輪廓儀S neox的微納技術(shù)角色

微納技術(shù)是21世紀的前沿科技領(lǐng)域,涉及微電子、MEMS、微流體、光子芯片等諸多方向。這些領(lǐng)域的共同特征是在微米乃至納米尺度上進行結(jié)構(gòu)的設(shè)計、加工和表征。尺度的微小化對測量技術(shù)提出了要求:需要非接觸、高分辨率、三維且快速的測量能力。Sensofar S neox 3D光學輪廓儀作為白光干涉儀和共聚焦顯微鏡的集成系統(tǒng),在微納技術(shù)的研發(fā)與質(zhì)量控制中扮演著一個角色。


在MEMS器件制造中,需要精確測量微結(jié)構(gòu)如懸臂梁、齒輪、彈簧的尺寸(線寬、厚度)、形狀(彎曲、翹曲)以及動態(tài)特性。S neox的白光干涉模式可以提供亞納米級的垂直分辨率,精確測量薄膜厚度和結(jié)構(gòu)的臺階高度。其高倍物鏡則能提供高的橫向分辨率,用于觀測微結(jié)構(gòu)的側(cè)壁形貌。對于器件的靜態(tài)形變,可以通過施加偏壓前后的形貌變化來量化。
在微流體芯片領(lǐng)域,流道的尺寸、深度、表面粗糙度直接影響流體的流動特性。S neox可以對微流道進行三維掃描,精確測量其寬度和深度,并評估流道表面的粗糙度,這對于優(yōu)化芯片設(shè)計和加工工藝非常重要。
對于光子晶體、光柵等光學微結(jié)構(gòu),其周期、占空比、刻蝕深度是決定其光學性能的關(guān)鍵參數(shù)。S neox能夠?qū)@些參數(shù)進行快速的非接觸測量,提供反饋以精確控制制備工藝。
面對微納結(jié)構(gòu)測量中常見的挑戰(zhàn),如高深寬比結(jié)構(gòu)、透明材料、高反射表面等,S neox的多技術(shù)融合特性提供了應對的靈活性。例如,對于深孔或窄槽,共聚焦模式可能有助于獲取側(cè)壁信息;對于透明聚合物制成的微流道,可以使用共聚焦模式或啟用透明材料校正算法。
此外,S neox的大面積自動拼接功能,允許用戶先觀測微結(jié)構(gòu)在大尺寸晶圓上的整體分布情況,然后自動定位到特定單元進行高倍精細測量,實現(xiàn)了從宏觀布局到微觀特性的關(guān)聯(lián)分析。
綜上所述,Sensofar S neox憑借其三維、高分辨率、非接觸的測量能力,能夠滿足微納技術(shù)領(lǐng)域?qū)ξ⑿〗Y(jié)構(gòu)進行定量化表征的多種需求。它為研究人員和工程師提供了一種工具,用于驗證設(shè)計、監(jiān)控工藝、分析失效,從而在微納技術(shù)的創(chuàng)新和發(fā)展過程中提供支持。


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